無(wú)磁光學(xué)平臺(tái)主要用于搭建立體閾上電離實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)，滿(mǎn)足對(duì)磁場(chǎng)有較高要求的實(shí)驗(yàn)環(huán)境。
無(wú)磁光學(xué)平臺(tái)根據(jù)不同的應(yīng)用需求和實(shí)驗(yàn)條件有多種類(lèi)型和規(guī)格可供選擇。例如，有臺(tái)面無(wú)磁型和臺(tái)面及支撐無(wú)磁型兩種類(lèi)型，以滿(mǎn)足不同用戶(hù)對(duì)磁場(chǎng)敏感度的要求。規(guī)格方面，平臺(tái)的大小、高度、負(fù)載能力等參數(shù)均可根據(jù)用戶(hù)需求進(jìn)行定制。
無(wú)磁光學(xué)平臺(tái)是一種特殊的實(shí)驗(yàn)設(shè)備，其主要功能和特點(diǎn)包括：
滿(mǎn)足特定實(shí)驗(yàn)需求：無(wú)磁光學(xué)平臺(tái)主要用于搭建立體閾上電離實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)，這種實(shí)驗(yàn)需要在無(wú)磁無(wú)震動(dòng)環(huán)境下進(jìn)行，以確保實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確性。
材料選擇：平臺(tái)通常采用304不銹鋼或316不銹鋼制成，這些材料具有好的無(wú)磁性，能夠滿(mǎn)足對(duì)磁場(chǎng)有較高要求的實(shí)驗(yàn)環(huán)境。
技術(shù)指標(biāo)：無(wú)磁光學(xué)平臺(tái)的技術(shù)指標(biāo)包括其無(wú)磁性、隔振性能等，這些指標(biāo)對(duì)于保證實(shí)驗(yàn)的準(zhǔn)確度和穩(wěn)定性很重要。
應(yīng)用領(lǐng)域：無(wú)磁光學(xué)平臺(tái)廣泛應(yīng)用于光學(xué)實(shí)驗(yàn)、醫(yī)學(xué)實(shí)驗(yàn)、精密儀器生產(chǎn)檢測(cè)、航空航天等領(lǐng)域，其中光學(xué)實(shí)驗(yàn)包括但不限于立體閾上電離實(shí)驗(yàn)、顯微鏡、光路測(cè)試、光學(xué)測(cè)量等。
技術(shù)特點(diǎn)：無(wú)磁光學(xué)平臺(tái)具有好的隔振性能和自動(dòng)調(diào)節(jié)水平的功能，這些特點(diǎn)有助于改善振動(dòng)環(huán)境，提高儀器設(shè)備的精度和使用效率。
綜上所述，無(wú)磁光學(xué)平臺(tái)是一種專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用于滿(mǎn)足特定實(shí)驗(yàn)需求的高精度設(shè)備，它在科學(xué)研究和技術(shù)開(kāi)發(fā)中扮演著重要的角色。
